芯片是一個扁平的硅片,上面嵌入了集成電路,甚至包括晶體管。硅晶片上產(chǎn)生了微小開關(guān)的圖案,通過嵌入材料,形成相互連接形狀的深而完整的網(wǎng)格。眾所周知,芯片生產(chǎn)是難度很大的,今天我們來討論一下芯片在生產(chǎn)制造的過程中的重要影響因素。
芯片生產(chǎn)的過程中有一個非常重要的步驟,需要利用純水沖洗,而這個純水的來源就是凈化而來的,因此需要消耗大量的水資源。而越是工藝制程好的芯片,所需消耗的水資源就越多。2nm的芯片工廠,每天所要消耗的水資源將達(dá)到9.8萬噸。
對于這個沖洗的環(huán)節(jié),我們不得不提到它的用水標(biāo)準(zhǔn)。普通的自來水在芯片沖洗過程中應(yīng)用是絕對不可以的,我們需要用到的是超純水。超純水是指電阻率達(dá)到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外,幾乎沒有什么雜質(zhì),更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二噁英等有機(jī)物,當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素,也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水,其中金屬離子可以小于1PPT。
這樣的超純水幾乎不導(dǎo)電,不會影響電子產(chǎn)品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。用超純水生產(chǎn)芯片可以提高芯片的良品率。
由于芯片生產(chǎn)需要用到大量的超純水,超純水的制備又成為了關(guān)鍵問題。萊特萊德超純水設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定地制備高質(zhì)量的超純水,不會因樹脂再生而停止運行。設(shè)備內(nèi)部還安裝有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù),再次從根本上確保了設(shè)備的出水質(zhì)量。同時,超純水設(shè)備廢水產(chǎn)量少,不會污染環(huán)境,具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益,具有廣闊的發(fā)展前景。
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