什么是單晶硅呢?它是一種半導(dǎo)體材料,其導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間,主要應(yīng)用于太陽能電池行業(yè)。在單晶硅的生產(chǎn)過程我們要對其進(jìn)行清洗,而清洗單晶硅時(shí)需要使用不含雜質(zhì)的超純水進(jìn)行清洗,那么,超純水設(shè)備就是一種可制備超純水,出水電阻率高且不含任何雜質(zhì)的設(shè)備。
目前主要的超純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)的主要工藝為雙級反滲透與EDI相結(jié)合的制水工藝,具有水利用率高,運(yùn)行可靠,經(jīng)濟(jì)合理等特點(diǎn)。那么,制備單晶硅清洗用水的超純水設(shè)備在長時(shí)間工作后,如果不定期進(jìn)行維護(hù),就很容易被污染,因此要對該設(shè)備進(jìn)行“呵護(hù)”,才能保證設(shè)備出水水質(zhì)符合要求。
如何,清洗保養(yǎng)超純水設(shè)備?
1、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內(nèi)混合。
2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至膜系統(tǒng),并排走原水,防止清洗液稀釋。
3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定,用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán)。
4、清洗液在設(shè)備內(nèi)浸泡一小時(shí)即可,污染較嚴(yán)重的膜系統(tǒng)可進(jìn)行更長時(shí)間的浸泡清洗。
5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘,使膜表面上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。
6、用清水將清洗液沖去。設(shè)備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。
綜上,單晶硅清洗應(yīng)用的超純水設(shè)備具有結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對靠緊,占地面積小,應(yīng)用范圍廣等特點(diǎn),但只有定期清洗才能夠能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,保證設(shè)備更長久的運(yùn)行。
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