EDI超純水設(shè)備滿足芯片生產(chǎn)用水的需求

　　芯片作為一種高精度的電子元件，具有集成度高、生產(chǎn)線窄、水質(zhì)要求高的特點(diǎn)。傳統(tǒng)的超純水制備工藝通常采用離子交換樹脂，需要樹脂再生，既消耗材料資源又消耗勞動(dòng)力。經(jīng)過多年實(shí)踐，結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透、EDI裝置和混合床模塊化設(shè)計(jì)工藝制備超純水，出水電阻率可達(dá)到18mΩ*cm(25℃)，滿足芯片制造用水要求，為芯片成品質(zhì)量提供有力保證。

　　芯片超純水設(shè)備幾乎可以完全去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，并在很低程度上去除水中未分離的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物。在制備超純水的過程中，無需酸堿再生，去除有害物質(zhì)，減少繁瑣的工藝程序，穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)18.2mΩ·CM超純水，滿足芯片生產(chǎn)用水的需要。

　　超純水設(shè)備配備專業(yè)的濃水置換技術(shù)，可有效防止膜系統(tǒng)被微生物污染。通過完善的技術(shù)提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行成本。萊特萊德專注于電子超純水領(lǐng)域，是一家集研發(fā)設(shè)計(jì)、設(shè)備制造、工程施工、運(yùn)行維護(hù)為一體的環(huán)保解決方案服務(wù)提供商。除芯片行業(yè)外，該設(shè)備還廣泛應(yīng)用于電力、造紙、日?；さ阮I(lǐng)域。